? ??????  ??????????  ???????  ????????  ? ?????
Главная страница / Статьи / 2018 г.

2018 г.

Dependence of Mechanical Stress in Silicon Nitride Film on Conditions of Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition

Автор(ы): Гусев Е.Э., Дедкова А.А., Новак А.В., Новак В.Р.
Опубликовано: Semiconductors Россия
Статус: Scopus, Web of Science, ВАК