Малогабаритная вакуумная установка напыления МВУ ТМ МАГНА

Страна: Россия
Фирма-изготовитель: НИИТМ
Марка: ТМ-150
Год: 2005

---

Установка предназначена для магнетронного нанесения тонких металлических плёнок, в том числе плёнок драгоценных металлов на кремниевые пластины диаметром 100 и 150 мм с предварительным нагревом пластины и очисткой поверхности пластины в едином вакуумном цикле.

Возможно нанесение тонких плёнок из:

- алюминия (Al);

- алюминия, легированного кремнием (Al-Si);

- алюминий-никеля (Ni-Al);

- хрома (Cr) ЭРХ 99,95 МП;

- тантала (Ta);

- титана (Ti) ВТ1-0;

- нитрида титана (TiN);

- молибдена (Mo) M99,95 MП;

- вольфрама (W) В 99,95 МП;

- стали НЖ20;

- никеля (Ni);

- сплава никель-железо (FeNi);

- ниобия (Nb);

- нитрида ниобия (NbN);

- неодимового магнита (NdFeB);

- магнитного сплава 79НМ;

- платины (Pt).

Диаметр обрабатываемых кремниевых пластин, мм.                        100 или 150

Количество обрабатываемых пластин за цикл, шт.                       2

Предельное остаточное давление в рабочей камере, Па                 2,6·10^-3

Максимальная мощность нагревателя пластин, кВт             1

Максимальная мощность блока питания источника ионов, кВт                       1

Количество магнетронов, шт.                          2

Максимальная мощность каждого магнетрона, кВт                           2,5

Максимальный расход реактивного газа, подаваемого в рабочую камеру, л/час.0,9

Максимальный расход аргона, подаваемого в рабочую камеру, л/час.    0,9