Перечень оборудования
Центра коллективного пользования «Микросистемная техника и электронная компонетная база»
Скачать список всего оборудования одним файлом

Фирма-изготовитель: (FGK) Delwoteс GmbH
Марка: 64000 G5
Год: 2007
Формирование внутренних выводов микросхемы

Фирма-изготовитель: FormFactor
Марка: Summit 12000
Год: 2020

Фирма-изготовитель: Disco Abrasive Systems, LTD
Марка: DAD3350
Год: 2007
Разделение полупроводниковых пластин
Аппаратно-программный комплекс для измерений X-, S- параметров и анализа характеристик усилителей до 40 ГГц
Фирма-изготовитель: .
Марка: .
Год: 2019
Аппаратно-программный комплекс для проектирования СВЧ МИС
Фирма-изготовитель: .
Марка: .
Год: 2019
Аппаратно-программный комплекс с терминальным доступом для выполнения задач проектирования интегральных микросхем с автоматизированными рабочими местами
Фирма-изготовитель: .
Марка: .
Год: 2019

Фирма-изготовитель: AIST-NT
Марка: SmartSPM
Год: 2009
Диапазон сканирования 100х100х15 мкм (±10 %); высокая линейность позволяет использовать сканер для метрологических приложений; малошумящие датчики обратной связи позволяют получать разрешение, при котором различимы атомарные ступеньки; максимальный размер образца 5х5х1 см

Фирма-изготовитель: ATV Technologie GmbH
Марка: SRO-706
Год: 2007
Обработка и подготовка поверхности корпуса микросхемы

Фирма-изготовитель: IonTOF
Марка: TOFSIMS-5-100
Год: 2012
Регистрация ионов с массой от 1 до 10 000 а.е.м.; разрешение по глубине от 0.5 ?; параллельное детектирование сразу всего масс-спектра; предел обнаружения бора (В) в кремнии (Si) 1016 ат./см3; предел обнаружения фосфора (P) в кремнии (Si) 1015 ат./см3; предел обнаружения других элементов от 1015 до 1019 ат./см3; линейное разрешение 80 нм
Высоковакуумная низкотемпературная система «PlasmoScope-2M» для исследования нанорельефа, магнитных и тепловых свойств наноструктур методами АСМ/СТМ/МСТ
Фирма-изготовитель: ПРОТОН-МИЭТ
Марка: PlasmoScope-2M
Год: 2015
Система позволяет проводить анализ геометрических и физических параметров топографии поверхности образцов с нанометровым пространственным разрешением на воздухе, в условиях сверхвысокого вакуума и магнитном поле при различных температурах. Точность измерения латеральных размеров до 1 нм, возможно проведения измерения АСМ и СТМ методиками, измерения проводящих и непроводящих материалов, визуализация атомарной решетки.

Фирма-изготовитель: AJA International Inc.
Марка: ATC-2200-UHV
Год: 2005
Установка предназначена для изготовления тонких металлических плёнок методом магнетронного распыления на постоянном токе в среде аргона, а также методом реактивного магнетронного ВЧ-распыления на пластинах Ø 150 мм, 100 мм, а также отдельных небольших образцах. Возможно нанесение тонких плёнок из:
- сплава никель-железо-кобальт (NiFeCo);
- сплава никель-железо (NiFe);
- алюминия (Al);
- никеля (Ni);
- титана (Ti);
- тантала (Ta);
- сплава кобальт-железо-бор (CoFeB);
- магния (Mg);
- сплава железо-марганец (FeMn);
- сплава марганец-иридий (MnIr);
- сплава никель-железо (FeNi);
- сплава железо-кобальт (FeCo);
- сегнетоэлектрика.

Фирма-изготовитель: FEI
Марка: Quanta 3D FEG
Год: 2013
Катод Шотти с полевой эмиссией позволяет сфокусировать первичный электронный пучек не хуже чем 1,2 нм; фокусированный ионный пучок галлия (размером не более 3 нм) позволяет проводить модификацию поверхности; прибор оборудован системой локального осаждения Pt и C на поверхность, а также микроманипулятором Kleindeik nanotechnik; микроскоп оснащен режимом низкого вакуума (10-130 Па) и режимом естественной среды (до 4000 Па и 100% отн. вл), прибор оснащен детекторами обратнорассеяных электронов

Фирма-изготовитель: Rigaku
Марка: SmartLab
Год: 2014
Качественный и количественный фазовый анализ слоев в тонкопленочных структурах и дисперсных системах. Определение межплоскостных расстояний в кристаллических пленках в диапазоне линейных размеров от 0,004 до 10,000 нм. Определяемая массовая доля отдельной фазы 0,1-100,0%;
определение микро- и макронапряжений в тонкопленочных структурах. Модуль определяемых трехосных напряжений 0-400,0 МПа. Определение профиля деформации в многослойных тонкопленочных структурах с пространственным разрешением 10 нм;"
определение преимущественной ориентации кристаллитов в тонких пленках в многослойных структурах.

Фирма-изготовитель: Cascade Microtech
Марка: PM5 Probe System
Год: 2011
Зондовая установка, оборудованная 6 зондами для измерения электрических параметров на приборах пластинах размером до 150 мм. Оснащена лазером для подгонки образцов.

Фирма-изготовитель: TOKYO SEIMITSU CO., LTD
Марка: UF200A
Год: 2007
Установка тестирования микросхем в составе пластин

Фирма-изготовитель: Espeс
Марка: MC-811P
Год: 2007
Испытание микросхем термоциклами

Фирма-изготовитель: ДМТ-Электроникс
Марка: ДМТ-518
Год: 2010
Для измерения и контроля параметров высокочастотных интегральных микросхем и устройств

Фирма-изготовитель: ДМТ-Электроникс
Марка: ДМТ-219
Год: 2010
Измерение параметров аналоговых микросхем и устройств

Фирма-изготовитель: Lasertech
Марка: VL 2000 DХ
Год: 2008
Наблюдение и измерение топографии поверхности различных образцов в микронном масштабе. Позволяет получать 3D изображение поверхности образца.

Фирма-изготовитель: Pyramid Engineering Systems Ltd.
Марка: HPS 9206М
Год: 2007
Герметизации корпусов методом роликовой шовной сварки
Малогабаритная вакуумная установка напыления МВУ ТМ МАГНА
Фирма-изготовитель: НИИТМ
Марка: ТМ-150
Год: 2005
Установка предназначена для магнетронного нанесения тонких металлических плёнок, в том числе плёнок драгоценных металлов на кремниевые пластины диаметром 100 и 150 мм с предварительным нагревом пластины и очисткой поверхности пластины в едином вакуумном цикле.
Возможно нанесение тонких плёнок из:
- алюминия (Al);
- алюминия, легированного кремнием (Al-Si);
- алюминий-никеля (Ni-Al);
- хрома (Cr) ЭРХ 99,95 МП;
- тантала (Ta);
- титана (Ti) ВТ1-0;
- нитрида титана (TiN);
- молибдена (Mo) M99,95 MП;
- вольфрама (W) В 99,95 МП;
- стали НЖ20;
- никеля (Ni);
- сплава никель-железо (FeNi);
- ниобия (Nb);
- нитрида ниобия (NbN);
- неодимового магнита (NdFeB);
- магнитного сплава 79НМ;
- платины (Pt).
Диаметр обрабатываемых кремниевых пластин, мм. 100 или 150
Количество обрабатываемых пластин за цикл, шт. 2
Предельное остаточное давление в рабочей камере, Па 2,6·10-3
Максимальная мощность нагревателя пластин, кВт 1
Максимальная мощность блока питания источника ионов, кВт 1
Количество магнетронов, шт. 2
Максимальная мощность каждого магнетрона, кВт 2,5
Максимальный расход реактивного газа, подаваемого в рабочую камеру, л/час.0,9
Максимальный расход аргона, подаваемого в рабочую камеру, л/час. 0,9

Фирма-изготовитель: "УП "КБТЭМ-СО""
Марка: Микро 2001-01
Год: 2009
Визуальный контроль

Фирма-изготовитель: KLA-Tencor
Марка: INM100
Год: 2007
Визуальный контроль

Фирма-изготовитель: Physical Electronics
Марка: PHI-670xi
Год: 2012
Вакуум в камере менее 6.7х10-8 Па; разрешение при получении изображения в оже-электронах менее 8 нм при 1 нА 20 кВ; отношения сигнала к шуму при оже анализе 700:1 при 10 нА 10 кВ; разрешение по энергии менее 0.5%; максимальный ток и плотность тока ионной пушки более 5 мкА при 5 кВ и более 3 мА/см2 при 5 кВ

Фирма-изготовитель: Nikon
Марка: ECLIPSE L200N
Год: 2005
Микроскоп предназначен для изучения и контроля качества различных объектов. Анализ в отраженном и проходящем свете, в режимах светлого поля и темного поля и др.
Микроскоп предназначен для изучения и контроля качества различных объектов (биологических структур, МЭМС, интегральных микросхем и др.).
Возможности:
· Качественный анализ поверхности.
· Качественный анализ элементов структуры прозрачных объектов.
· Измерение линейных размеров.
· Оценка перепада высот.
Проведение наблюдения при эпископическом и диаскопическом освещении (отраженный и проходящий свет), в режимах светлого поля и темного поля, простой поляризации, эпифлуоресценции, дифференциально-интерференционного контраста.
Технические характеристики:
· Объективы серии CFI, свободные от хроматических аберраций.
· Объективы 5x, 10x, 20x, 50x, 100x, 150x (область измерения от 2.3х1.7см до 125х90 мкм).
· Цифровая камера 5 Мп.
· Шаг фокусировки 1 мкм.
Оптический микроскоп VL2000D высокого разрешения
Фирма-изготовитель: KLA-Tencor
Марка: VL2000D
Год: 2007
Визуальный контроль
Оптический микроскоп Vistec lNM100/DFC290 с цветной цифр.камерой
Фирма-изготовитель: KLA-Tencor
Марка: lNM100/DFC290
Год: 2007
Визуальный контроль

Фирма-изготовитель: Veeco Wyko
Марка: NT 9300
Год: 2010

Фирма-изготовитель: Cascade Microtech
Марка: Summit 12K
Год: 2005
Полуавтоматическиая зондовая система серии Summit с технологиями PureLine ™ и AttoGuard® позволят проводить исследования полным спектром измерительных приборов для пластин до 200 мм

Фирма-изготовитель: Vistec
Марка: 7012
Год: 2011
Позволяет формировать интегральные схемы на фотошаблонах размером 7 дюймов, используемых для контактной литографии