Перечень оборудования
Центра коллективного пользования «Микросистемная техника и электронная компонетная база»

Установка предназначена для резистивного нанесения плёнок на кремниевые пластины диаметром 100 мм с предварительным нагревом пластины в едином вакуумном цикле. Возможно также использование пластин диаметром 150 мм. Возможно нанесение тонких плёнок из:

- алюминия (Al);

- меди (Cu);

- индия (In);

- висмута (Bi);

- олова (Sn);

- золота (Au);

- серебра (Ag);

- сурьмы (Sb).

Технические характеристики:

Диаметр обрабатываемых кремниевых пластин, мм.  100 или 150

Количество обрабатываемых пластин за цикл, шт.    1

Предельное остаточное давление в рабочей камере, Па   2,6·10^-3

Максимальная мощность нагревателя пластин, кВт     1

Максимальная температура датчика нагрева пластин, °С 200

Количество резистивных испарителей, шт. 1

Максимальная мощность блока питания резистивного испарителя, Вт 600

Обработка и подготовка поверхности корпуса микросхемы

Формирование внутренних выводов микросхемы с системой контроля

Функциональный и параметрический контроль микросхем

Одновременная регистрация всех элементов от B до U; предел обнаружения элементов ~1019 ат./см3; разрешение по энергии 121 эВ

Элементный анализ