? ??????  ??????????  ???????  ????????  ? ?????
Главная страница / О Центре / Сотрудники / Дирекция ЦКП / Научно-технологический центр "Нано- и микросистемной техники" (НТЦ НМСТ) / НИЛ "Разработка технологий" (РТ)

Захарова Н.С.

Инженер (НИЛ "Разработка технологий" (РТ))





Статьи

  1. Влияние технологических режимов формирования пленки негативного фоторезиста ФН16У в процесс «взрывной» фотолитографии на параметры жертвенного слоя, 2019 г.

    Микроэлектроника и информатика - 2019 2019. – С. 55