? ??????  ??????????  ???????  ????????  ? ?????
Главная страница / Статьи / Февраль 2018 г.

Пятница, 2 Февраля 2018 г.

Dependence of Mechanical Stress in Silicon Nitride Film on Conditions of Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition

Автор(ы): Гусев Е.Э., Дедкова А.А., Новак А.В., Новак В.Р.
Опубликовано: Semiconductors Россия
Статус: Scopus, Web of Science, ВАК

Скачать
Имя файла: 9.pdf
Размер файла: 301.12 KB
Дата изменения: 29.08.2018 Среда 09:36:05
Тип файла: PDF
 
Размер файла: 301.12 KB