2019 г.

Влияние технологических режимов формирования пленки негативного фоторезиста ФН16У в процесс «взрывной» фотолитографии на параметры жертвенного слоя

Автор(ы): Захарова Н.С.
Опубликовано: Микроэлектроника и информатика - 2019 2019. – С. 55
Статус: -