? ??????  ??????????  ???????  ????????  ? ?????
Главная страница / О Центре / Сотрудники / Дирекция ЦКП / Научно-технологический центр "Нано- и микросистемной техники" (НТЦ НМСТ) / НИЛ "Исследование изделий" (ИИ)

Киреев В.Ю.

Ведущий инженер (НИЛ "Исследование изделий" (ИИ))

Ученая степень: доктор технических наук


В 1972 г. с отличием окончил Московский институт электронной техники (МИЭТ) по специальности «автоматика и электроника». В 1975 году окончил аспирантуру МИЭТ и защитил кандидатскую диссертацию. С 1975 по 1978 гг. младший научный сотрудник кафедры «Спецоборудование» МИЭТ. С 1978 по 1984 гг. старший научный сотрудник НИИ Физических Проблем. В 1983 г. получил ученое звание ВАК «старший научный сотрудник». С 1984 по 1986 гг. начальник лаборатории плазмохимического травления НИИ Точной Технологии. С 1986 по 1988 гг. начальник сектора отдельной научно-исследовательской лаборатории “Субмикронная технология ИМС” МИЭТ. С 1988 по 1991 гг. докторантура МИЭТ и защита докторской диссертации. С 1992 г. ведущий научный сотрудник лаборатории «Вакуумно-плазменные технологии» МИЭТ, с 1995 по 1999 гг. начальник лаборатории «Вакуумно-плазменные технологии» МИЭТ.

С 1999 г - старший научный сотрудник отдела перспективных исследований, с 2000 по 2004 годы начальник сектора разработки технологических операций отдела разработки технологических процессов, с 2005 по 2007 гг. ведущий научный сотрудник отдела разработки высокопроизводительных систем и информационной безопасности в Научно-исследовательском институте системных исследований РАН.

С 2007 по 2010 гг. начальник лаборатории во ФГУП «Центрального научно-исследовательского института химии и механики». С 2010 по 2011 гг. ведущий научный сотрудник по технологии ООО «Термиона». С 2011 по 2012 гг. зам. директора департамента научных исследований и перспективных разработок компании ООО «ЭСТО-Вакуум». С 2012 по 2014 гг. начальник отдела системных исследований компании ООО «Перспективные плазменные технологии». С 2014 по 2015 гг. советник по науке директора ФГУП «Научно-исследовательский институт физических проблем им. Ф.В. Лукина». С мая 2016 года по настоящее время ведущий инженер НТЦ «Нано и микросистемная техника» ЦКП «МСТ и ЭКБ» МИЭТ, с мая 2018 года – профессор кафедры ПКИМС НИУ «МИЭТ».

Киреев В.Ю. является известным ученым и специалистом в области разработки новых технологических процессов и оборудования для ионной и плазменной обработки материалов полупроводниковой электроники. Им разработаны многочисленные технологические процессы вакуумно-плазменного травления и осаждения различных функциональных слоев, используемых в интегральных микросхемах (ИМС) и микроэлектромеханических системах (МЭМС). Он является автором теории процессов плазмохимического травления, методик расчета и отработки технологических характеристик операций и параметров устройств плазмохимического и ионного травления и распыления, исследований механизмов плазменного, радикального, газового и ионного травления материалов. В последнее десятилетие он успешно занимается исследованиями фундаментальных основ физики и нанотехнологий, на основе которых им предложены и экспериментально реализованы ряд процессов получения материалов и структур с уникальными физико-химическими свойствами.


Статьи

  1. Effect of in situ laser radiation on the parameters of the alumina films fabricated by atomic layer deposition, 2018 г.

    ICMNE-2018 Россия, МО, г. Звенигород

  2. Investigation of the Concept of a Miniature X-ray Source Based on Nanoscale Vacuum Field-emission Triode Controlled by Cut-off Grid Voltage, 2018 г.

    2018 IEEE Conference of Russian Young Researchers in Electrical and Electronic Engineering (EIConRus) Россия

  3. Separation of a silicon substrate into chips by liquid etching, 2018 г.

    2018 IEEE Conference of Russian Young Researchers in Electrical and Electronic Engineering (EIConRus) Россия

  4. Анализ ферромагнитных пленок с помощью системы исследования магнитооптического эффекта Керра и спектрального эллипсометра, 2018 г.

    "Нано- и микросистемная техника" Том 20, №9, 2018 г.

  5. Исследования воздействия лазерного излучения на параметры пленок оксида алюминия, осаждаемых в процессе атомно-слоевого осаждения, 2018 г.

    Российские нанотехнологии / Nanonechnologies in Russia Россия

  6. Evaluation of the field-emission characteristics of the different types of triode structure with the nanoscale vacuum channel , 2017 г.

    Proceedings of the 2017 IEEE Russia Section Young Researchers in Electrical and Electronic Engineering Confe rence. Part II. – 2017. – Р. 508–511

  7. Fabrication and Study of Parameters and Properties of Nanostructured Membranes for MEMS Devices, 2017 г.

    Nanotechnologies in Russia – 2017. – Vol. 12. – No. 7–8. – P. 414–425

  8. Study of mathematical model of membrane type flow sensor, 2017 г.

    Proceedings of the 2017 IEEE Russia Section Young Researchers in Electrical and Electronic Engineering Conference February 1 - 3,2017 Part II – 2017. – Р. 530–533