Главная страница / О Центре / Сотрудники / Дирекция ЦКП / Научно-технологический центр "Нано- и микросистемной техники" (НТЦ НМСТ) / НИЛ "Исследование изделий" (ИИ)

Киреев В.Ю.

Ведущий инженер (НИЛ "Исследование изделий" (ИИ))

Ученая степень: доктор технических наук

В 1972 г. с отличием окончил Московский институт электронной техники (МИЭТ) по специальности «автоматика и электроника». В 1975 году окончил аспирантуру МИЭТ и защитил кандидатскую диссертацию. С 1975 по 1978 гг. младший научный сотрудник кафедры «Спецоборудование» МИЭТ. С 1978 по 1984 гг. старший научный сотрудник НИИ Физических Проблем. В 1983 г. получил ученое звание ВАК «старший научный сотрудник». С 1984 по 1986 гг. начальник лаборатории плазмохимического травления НИИ Точной Технологии. С 1986 по 1988 гг. начальник сектора отдельной научно-исследовательской лаборатории “Субмикронная технология ИМС” МИЭТ. С 1988 по 1991 гг. докторантура МИЭТ и защита докторской диссертации. С 1992 г. ведущий научный сотрудник лаборатории «Вакуумно-плазменные технологии» МИЭТ, с 1995 по 1999 гг. начальник лаборатории «Вакуумно-плазменные технологии» МИЭТ.

С 1999 г - старший научный сотрудник отдела перспективных исследований, с 2000 по 2004 годы начальник сектора разработки технологических операций отдела разработки технологических процессов, с 2005 по 2007 гг. ведущий научный сотрудник отдела разработки высокопроизводительных систем и информационной безопасности в Научно-исследовательском институте системных исследований РАН.

С 2007 по 2010 гг. начальник лаборатории во ФГУП «Центрального научно-исследовательского института химии и механики». С 2010 по 2011 гг. ведущий научный сотрудник по технологии ООО «Термиона». С 2011 по 2012 гг. зам. директора департамента научных исследований и перспективных разработок компании ООО «ЭСТО-Вакуум». С 2012 по 2014 гг. начальник отдела системных исследований компании ООО «Перспективные плазменные технологии». С 2014 по 2015 гг. советник по науке директора ФГУП «Научно-исследовательский институт физических проблем им. Ф.В. Лукина». С мая 2016 года по настоящее время ведущий инженер НТЦ «Нано и микросистемная техника» ЦКП «МСТ и ЭКБ» МИЭТ, с мая 2018 года – профессор кафедры ПКИМС НИУ «МИЭТ».

Киреев В.Ю. является известным ученым и специалистом в области разработки новых технологических процессов и оборудования для ионной и плазменной обработки материалов полупроводниковой электроники. Им разработаны многочисленные технологические процессы вакуумно-плазменного травления и осаждения различных функциональных слоев, используемых в интегральных микросхемах (ИМС) и микроэлектромеханических системах (МЭМС). Он является автором теории процессов плазмохимического травления, методик расчета и отработки технологических характеристик операций и параметров устройств плазмохимического и ионного травления и распыления, исследований механизмов плазменного, радикального, газового и ионного травления материалов. В последнее десятилетие он успешно занимается исследованиями фундаментальных основ физики и нанотехнологий, на основе которых им предложены и экспериментально реализованы ряд процессов получения материалов и структур с уникальными физико-химическими свойствами.

Статьи

Effect of in situ laser radiation on the parameters of the alumina films fabricated by atomic layer deposition, 2018 г.
ICMNE-2018 Россия, МО, г. Звенигород
Investigation of the Concept of a Miniature X-ray Source Based on Nanoscale Vacuum Field-emission Triode Controlled by Cut-off Grid Voltage, 2018 г.
2018 IEEE Conference of Russian Young Researchers in Electrical and Electronic Engineering (EIConRus) Россия
Separation of a silicon substrate into chips by liquid etching, 2018 г.
2018 IEEE Conference of Russian Young Researchers in Electrical and Electronic Engineering (EIConRus) Россия
Анализ ферромагнитных пленок с помощью системы исследования магнитооптического эффекта Керра и спектрального эллипсометра, 2018 г.
"Нано- и микросистемная техника" Том 20, №9, 2018 г.
Исследования воздействия лазерного излучения на параметры пленок оксида алюминия, осаждаемых в процессе атомно-слоевого осаждения, 2018 г.
Российские нанотехнологии / Nanonechnologies in Russia Россия
Evaluation of the field-emission characteristics of the different types of triode structure with the nanoscale vacuum channel , 2017 г.
Proceedings of the 2017 IEEE Russia Section Young Researchers in Electrical and Electronic Engineering Confe rence. Part II. – 2017. – Р. 508–511
Fabrication and Study of Parameters and Properties of Nanostructured Membranes for MEMS Devices, 2017 г.
Nanotechnologies in Russia – 2017. – Vol. 12. – No. 7–8. – P. 414–425
Study of mathematical model of membrane type flow sensor, 2017 г.
Proceedings of the 2017 IEEE Russia Section Young Researchers in Electrical and Electronic Engineering Conference February 1 - 3,2017 Part II – 2017. – Р. 530–533

Киреев В.Ю.

Статьи

ICMNE-2018 Россия, МО, г. Звенигород

2018 IEEE Conference of Russian Young Researchers in Electrical and Electronic Engineering (EIConRus) Россия

2018 IEEE Conference of Russian Young Researchers in Electrical and Electronic Engineering (EIConRus) Россия

"Нано- и микросистемная техника" Том 20, №9, 2018 г.

Российские нанотехнологии / Nanonechnologies in Russia Россия

Proceedings of the 2017 IEEE Russia Section Young Researchers in Electrical and Electronic Engineering Confe rence. Part II. – 2017. – Р. 508–511

Nanotechnologies in Russia – 2017. – Vol. 12. – No. 7–8. – P. 414–425

Proceedings of the 2017 IEEE Russia Section Young Researchers in Electrical and Electronic Engineering Conference February 1 - 3,2017 Part II – 2017. – Р. 530–533

Форма обратной связиВаши вопросы, пожелания, отзывы.

Форма обратной связи
Ваши вопросы, пожелания, отзывы.