Перечень оборудования
Центра коллективного пользования «Микросистемная техника и электронная компонетная база»
Скачать список всего оборудования одним файлом
![](/previews/1522653780.gif)
Фирма-изготовитель: CORIAL
Марка: Corial 300S
Год: 2015
Обеспечивает формирование топологических элементов с размерами нанодиапазона в маскирующем слое при прямом переносе изображения методом электронно-лучевой литографии; позволяет осуществлять замкнутый цикл изготовления фотошаблонов, включающий изготовление критических слоев с использованием RET-технологии
![](/previews/1522653679.gif)
Фирма-изготовитель: Fancort Industries, Inc.
Марка: 5000L-F-3A-F-1A/4
Год: 2007
Обрезка выводной рамки и формовка выводов микросхемы
Система лазерного разделения пластин со структурами, формируемыми по технологии 3D-сборки
Фирма-изготовитель: НИИПМ
Марка: .
Год: 2017
![](/previews/1522403940.gif)
Фирма-изготовитель: Xenos
Марка: XeDraw 2
Год: 2010
Проведение электронной литографии
![](/previews/1579162110.gif)
Фирма-изготовитель: Micro Tec
Марка: SB8Gen, SD12, HP200, DB12T
Год: 2018
Система временного бондинга пластин со структурами, формируемыми по технологии 3D сборки :
* установка бондинга SUSS Micro Tec SB8Gen,
* установка очистки SUSS Micro Tec SD12,
* установка задубливания фиксирующего состава Sawatec HP200,
* установка дебондинга SUSS Micro Tec DB12T
Процессы временного бондинга являются необходимым этапом реализации замкнутого цикла создания микроэлектронных систем с применением технологии 3D-интеграфии и получения утоненных полупроводниковых пластин (в т.ч. со сформированными TSV-структурами).
![](/previews/1613396867.gif)
Фирма-изготовитель: FLIR System
Марка: SC5700 M
Год: 2010
Построение карт распределения температуры по поверхности структуры в различных цветовых палитрах. Построения графиков распределения температуры вдоль заданного сечения. Запись видео динамических тепловых процессов на поверхности структуры. Выполнение логических операций над кадрами для определения областей изменения температуры во времени.
![](/previews/1522416881.gif)
Фирма-изготовитель: DAGE Precision Industries Ltd.
Марка: XD7600NT
Год: 2007
Рентгеноскопический цифровой контроль микросхем с функцией томографии
![](/previews/1522402511.gif)
Фирма-изготовитель: JEOL
Марка: JSM-6490LV
Год: 2008
Термокатод позволяет сфокусировать первичный электронный пучек не хуже чем 12 нм; максимальный размер образца 150х150х10 м
Проходная камера CK-581 (Multitest Elektronische System)
Фирма-изготовитель: Multitest Elektronische System GmbH
Марка: CK-581
Год: 2010
Задание температурных режимов при проведении операций функционального и параметрического контроля микросхем
![](/previews/1522411562.gif)
Фирма-изготовитель: KLA-Tencor
Марка: Alpha-Step D120
Год: 2012
Разрешение по вертикали 0.5 нм; длина получаемого изображения 55 мм; диапазон перемещения по вертикали до 1.2 мм; предметный столик (диаметр 200 мм) с сервоприводами для установки образца; диапазон перемещения предметного столика 150х178 мм
Программно–технический комплекс высокопроизводительных вычислений с использованием САПР
Фирма-изготовитель: .
Марка: .
Год: 2019
![](/previews/1522652183.gif)
Фирма-изготовитель: Vistec
Марка: 7012
Год: 2011
Позволяет формировать интегральные схемы на фотошаблонах размером 7 дюймов, используемых для контактной литографии
![](/previews/1522651702.gif)
Фирма-изготовитель: Cascade Microtech
Марка: Summit 12K
Год: 2005
Полуавтоматическиая зондовая система серии Summit с технологиями PureLine ™ и AttoGuard® позволят проводить исследования полным спектром измерительных приборов для пластин до 200 мм
![](/previews/1611672871.gif)
Фирма-изготовитель: Veeco Wyko
Марка: NT 9300
Год: 2010
Оптический микроскоп Vistec lNM100/DFC290 с цветной цифр.камерой
Фирма-изготовитель: KLA-Tencor
Марка: lNM100/DFC290
Год: 2007
Визуальный контроль
Оптический микроскоп VL2000D высокого разрешения
Фирма-изготовитель: KLA-Tencor
Марка: VL2000D
Год: 2007
Визуальный контроль
![](/previews/1622493286.gif)
Фирма-изготовитель: Nikon
Марка: ECLIPSE L200N
Год: 2005
Микроскоп предназначен для изучения и контроля качества различных объектов. Анализ в отраженном и проходящем свете, в режимах светлого поля и темного поля и др.
Микроскоп предназначен для изучения и контроля качества различных объектов (биологических структур, МЭМС, интегральных микросхем и др.).
Возможности:
· Качественный анализ поверхности.
· Качественный анализ элементов структуры прозрачных объектов.
· Измерение линейных размеров.
· Оценка перепада высот.
Проведение наблюдения при эпископическом и диаскопическом освещении (отраженный и проходящий свет), в режимах светлого поля и темного поля, простой поляризации, эпифлуоресценции, дифференциально-интерференционного контраста.
Технические характеристики:
· Объективы серии CFI, свободные от хроматических аберраций.
· Объективы 5x, 10x, 20x, 50x, 100x, 150x (область измерения от 2.3х1.7см до 125х90 мкм).
· Цифровая камера 5 Мп.
· Шаг фокусировки 1 мкм.
![](/previews/1522401172.gif)
Фирма-изготовитель: Physical Electronics
Марка: PHI-670xi
Год: 2012
Вакуум в камере менее 6.7х10-8 Па; разрешение при получении изображения в оже-электронах менее 8 нм при 1 нА 20 кВ; отношения сигнала к шуму при оже анализе 700:1 при 10 нА 10 кВ; разрешение по энергии менее 0.5%; максимальный ток и плотность тока ионной пушки более 5 мкА при 5 кВ и более 3 мА/см2 при 5 кВ
![](/previews/1522416226.gif)
Фирма-изготовитель: KLA-Tencor
Марка: INM100
Год: 2007
Визуальный контроль
![](/previews/1522651560.gif)
Фирма-изготовитель: "УП "КБТЭМ-СО""
Марка: Микро 2001-01
Год: 2009
Визуальный контроль
Малогабаритная вакуумная установка напыления МВУ ТМ МАГНА
Фирма-изготовитель: НИИТМ
Марка: ТМ-150
Год: 2005
Установка предназначена для магнетронного нанесения тонких металлических плёнок, в том числе плёнок драгоценных металлов на кремниевые пластины диаметром 100 и 150 мм с предварительным нагревом пластины и очисткой поверхности пластины в едином вакуумном цикле.
Возможно нанесение тонких плёнок из:
- алюминия (Al);
- алюминия, легированного кремнием (Al-Si);
- алюминий-никеля (Ni-Al);
- хрома (Cr) ЭРХ 99,95 МП;
- тантала (Ta);
- титана (Ti) ВТ1-0;
- нитрида титана (TiN);
- молибдена (Mo) M99,95 MП;
- вольфрама (W) В 99,95 МП;
- стали НЖ20;
- никеля (Ni);
- сплава никель-железо (FeNi);
- ниобия (Nb);
- нитрида ниобия (NbN);
- неодимового магнита (NdFeB);
- магнитного сплава 79НМ;
- платины (Pt).
Диаметр обрабатываемых кремниевых пластин, мм. 100 или 150
Количество обрабатываемых пластин за цикл, шт. 2
Предельное остаточное давление в рабочей камере, Па 2,6·10-3
Максимальная мощность нагревателя пластин, кВт 1
Максимальная мощность блока питания источника ионов, кВт 1
Количество магнетронов, шт. 2
Максимальная мощность каждого магнетрона, кВт 2,5
Максимальный расход реактивного газа, подаваемого в рабочую камеру, л/час.0,9
Максимальный расход аргона, подаваемого в рабочую камеру, л/час. 0,9
![](/previews/1522416414.gif)
Фирма-изготовитель: Pyramid Engineering Systems Ltd.
Марка: HPS 9206М
Год: 2007
Герметизации корпусов методом роликовой шовной сварки
![](/previews/1522415532.gif)
Фирма-изготовитель: Lasertech
Марка: VL 2000 DХ
Год: 2008
Наблюдение и измерение топографии поверхности различных образцов в микронном масштабе. Позволяет получать 3D изображение поверхности образца.
![](/previews/1522651188.gif)
Фирма-изготовитель: ДМТ-Электроникс
Марка: ДМТ-219
Год: 2010
Измерение параметров аналоговых микросхем и устройств
![](/previews/1522651156.gif)
Фирма-изготовитель: ДМТ-Электроникс
Марка: ДМТ-518
Год: 2010
Для измерения и контроля параметров высокочастотных интегральных микросхем и устройств
![](/previews/1522417032.gif)
Фирма-изготовитель: Espeс
Марка: MC-811P
Год: 2007
Испытание микросхем термоциклами
![](/previews/1522416486.gif)
Фирма-изготовитель: TOKYO SEIMITSU CO., LTD
Марка: UF200A
Год: 2007
Установка тестирования микросхем в составе пластин
![](/previews/1522650943.gif)
Фирма-изготовитель: Cascade Microtech
Марка: PM5 Probe System
Год: 2011
Зондовая установка, оборудованная 6 зондами для измерения электрических параметров на приборах пластинах размером до 150 мм. Оснащена лазером для подгонки образцов.
![](/previews/1522403275.gif)
Фирма-изготовитель: Rigaku
Марка: SmartLab
Год: 2014
Качественный и количественный фазовый анализ слоев в тонкопленочных структурах и дисперсных системах. Определение межплоскостных расстояний в кристаллических пленках в диапазоне линейных размеров от 0,004 до 10,000 нм. Определяемая массовая доля отдельной фазы 0,1-100,0%;
определение микро- и макронапряжений в тонкопленочных структурах. Модуль определяемых трехосных напряжений 0-400,0 МПа. Определение профиля деформации в многослойных тонкопленочных структурах с пространственным разрешением 10 нм;"
определение преимущественной ориентации кристаллитов в тонких пленках в многослойных структурах.
![](/previews/1522403185.gif)
Фирма-изготовитель: FEI
Марка: Quanta 3D FEG
Год: 2013
Катод Шотти с полевой эмиссией позволяет сфокусировать первичный электронный пучек не хуже чем 1,2 нм; фокусированный ионный пучок галлия (размером не более 3 нм) позволяет проводить модификацию поверхности; прибор оборудован системой локального осаждения Pt и C на поверхность, а также микроманипулятором Kleindeik nanotechnik; микроскоп оснащен режимом низкого вакуума (10-130 Па) и режимом естественной среды (до 4000 Па и 100% отн. вл), прибор оснащен детекторами обратнорассеяных электронов